हाफनियम टेट्राक्लोराइड | HfCl4 पाउडर | CAS १३४९९-०५-३ | कारखाना मूल्य

छोटो वर्णन:

हाफ्नियम टेट्राक्लोराइडको हाफ्नियम अक्साइडको अग्रदूत, जैविक संश्लेषण, आणविक अनुप्रयोगहरू, र पातलो फिल्म निक्षेपणको लागि उत्प्रेरकको रूपमा महत्त्वपूर्ण प्रयोगहरू छन्, जसले विभिन्न प्राविधिक क्षेत्रहरूमा यसको बहुमुखी प्रतिभा र महत्त्वलाई प्रकाश पार्छ।

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

हामीलाई इमेल पठाउनुहोस्

उत्पादन विवरण

उत्पादन ट्यागहरू

उत्पादन विवरण

संक्षिप्त परिचय

उत्पादनको नाम: हाफनियम टेट्राक्लोराइड
CAS नम्बर: १३४९९-०५-३
यौगिक सूत्र: HfCl4
आणविक तौल: ३२०.३
रूप: सेतो पाउडर

निर्दिष्टीकरण

वस्तु	निर्दिष्टीकरण
उपस्थिति	सेतो पाउडर
HfCl4+ZrCl4	≥९९.९%
Zr	≤२०० पीपीएम
Fe	≤४० पीपीएम
Ti	≤२० पीपीएम
Si	≤४० पीपीएम
Mg	≤२० पीपीएम
Cr	≤२० पीपीएम
Ni	≤२५ पीपीएम
U	≤५ पीपीएम
Al	≤६० पीपीएम

आवेदन

हाफ्नियम डाइअक्साइड प्रिकर्सर: हाफ्नियम टेट्राक्लोराइड मुख्यतया हाफ्नियम डाइअक्साइड (HfO2) उत्पादन गर्न अग्रदूतको रूपमा प्रयोग गरिन्छ, उत्कृष्ट डाइलेक्ट्रिक गुणहरू भएको सामग्री। HfO2 अर्धचालक उद्योगमा ट्रान्जिस्टर र क्यापेसिटरहरूको लागि उच्च-k डाइलेक्ट्रिक अनुप्रयोगहरूमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ। हाफ्नियम डाइअक्साइडको पातलो फिल्महरू बनाउने क्षमताको कारणले गर्दा HfCl4 उन्नत इलेक्ट्रोनिक उपकरणहरूको निर्माणमा आवश्यक छ।
जैविक संश्लेषण उत्प्रेरक: हाफनियम टेट्राक्लोराइडलाई विभिन्न जैविक संश्लेषण प्रतिक्रियाहरू, विशेष गरी ओलेफिन पोलिमराइजेसनको लागि उत्प्रेरकको रूपमा प्रयोग गर्न सकिन्छ। यसको लुईस एसिड गुणहरूले सक्रिय मध्यवर्तीहरू बनाउन मद्दत गर्दछ, जसले गर्दा रासायनिक प्रतिक्रियाहरूको दक्षतामा सुधार हुन्छ। रासायनिक उद्योगमा पोलिमर र अन्य जैविक यौगिकहरूको उत्पादनमा यो प्रयोग मूल्यवान छ।
आणविक प्रयोग: यसको उच्च न्यूट्रोन अवशोषण क्रस सेक्शनको कारण, हाफनियम टेट्राक्लोराइड आणविक अनुप्रयोगहरूमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ, विशेष गरी आणविक रिएक्टरहरूको नियन्त्रण रडहरूमा। हाफनियमले न्यूट्रोनहरूलाई प्रभावकारी रूपमा अवशोषित गर्न सक्छ, त्यसैले यो विखंडन प्रक्रियालाई नियमन गर्नको लागि उपयुक्त सामग्री हो, जसले आणविक ऊर्जा उत्पादनको सुरक्षा र दक्षता सुधार गर्न मद्दत गर्दछ।
पातलो फिल्म निक्षेपण: हाफ्नियम टेट्राक्लोराइड रासायनिक वाष्प निक्षेपण (CVD) प्रक्रियाहरूमा हाफ्नियम-आधारित सामग्रीहरूको पातलो फिल्महरू बनाउन प्रयोग गरिन्छ। यी फिल्महरू माइक्रोइलेक्ट्रोनिक्स, अप्टिक्स, र सुरक्षात्मक कोटिंगहरू सहित विभिन्न अनुप्रयोगहरूमा आवश्यक छन्। एकसमान, उच्च-गुणस्तरका फिल्महरू जम्मा गर्ने क्षमताले HfCl4 लाई उन्नत उत्पादन प्रक्रियाहरूमा मूल्यवान बनाउँछ।